E02353 ホロン 有価証券報告書－第29期(2013/04/01－2014/03/31)

第一部 【企業情報】

第１ 【企業の概況】

１ 【主要な経営指標等の推移】

提出会社の最近５事業年度に係る主要な経営指標等の推移

(注) １　当社は連結財務諸表を作成しておりませんので、連結会計年度に係る主要な経営指標等の推移については記載しておりません。

２　売上高には、消費税等は含まれておりません。

３　持分法を適用した場合の投資利益については、関連会社がないため、記載しておりません。

４　潜在株式調整後１株当たり当期純利益金額については、第25期は希薄化効果を有している潜在株式が存在しないため、第26期及び第27期は潜在株式は存在しますが１株当たり当期純損失であるため、第28期及び第29期は潜在株式が存在しないため記載しておりません。第26期及び第27期の株価収益率については、当期純損失であるため記載しておりません。配当性向については、配当金の支払いがないため記載しておりません。

５　平成25年10月１日付で株式分割を行っており、第28期の期首に当該株式分割が行われたと仮定して１株当たり純資産額及び１株当たり当期純利益金額を算定しております。

６　従業員数は、就業人員数を表示しております。

７　第27期及び第28期の数値は、誤謬の訂正による遡及処理後の数値であります。また、過年度の決算訂正を行い、平成26年6月26日に訂正報告書を提出しております。

２ 【沿革】

３ 【事業の内容】

当社は、半導体ウエハ及びマスク上の半導体の回路寸法を、電子ビームによって測定する微小寸法測定装置の開発・製造・販売を主たる業務としております。

半導体デバイスの製造プロセス(1)では、マスクと呼ばれるものとウエハと呼ばれるものとがあります。写真の世界で言えばマスクはネガフィルム、ウエハは印画紙に相当します。

半導体デバイスは微細化が進み、従来の光学式測定装置では測定が不可能となり、光源に電子ビームを使った微小寸法測定装置（電子ビーム技術、それをコントロールする制御技術及び真空技術等を要素技術とした検査装置）が開発されました。この電子ビームによるマスクとウエハ上の回路パターンの微小寸法測定装置が当社の主製品であり、当社の顧客の大半は半導体デバイスを製造する半導体メーカー、マスク（原版）を製造するマスクメーカーであります。

当社は設立当初はウエハ用電子ビーム微小寸法測定装置により市場開拓を行いましたが、現在の主力製品はマスク用電子ビーム微小寸法測定装置となっております。

その他の事業として自社製品の定期点検、修理等の保守サービス及び他社との共同開発研究も業務の一部として行っております。

当社の事業の系統図は、次のとおりであります。

(1) 製品事業

当社が開発・製造・販売している製品は、その用途から以下の5種類に大別されます。

①　マスク用電子ビーム微小寸法測定装置

当社製品名として「EMUシリーズ」・「Zシリーズ」として販売しており、以下「EMU」・「Z」と記載します。

②　ステンシル（穴あき）マスク用電子ビーム検査装置

当社製品名として「ESTシリーズ」として販売しており、以下「EST」と記載します。

③　ウエハ用電子ビーム微小寸法測定装置

当社製品名として「ESPAシリーズ」として販売しており、以下「ESPA」と記載します。

④　LED（発光ダイオード）生産用パターン転写装置

当社製品名として「EBLITHOシリーズ」として販売しており、以下「EBLITHO」と記載します。

①　EMU・Z

EMU・Zは、マスクの原版の回路図の線幅を測定し、回路の寸法検査及び欠陥検査を行う電子ビーム微小寸法測定装置です。

技術の最大の特徴は、レーザー等の光線ではなく電子ビームを使用しているため、光学式寸法測定装置より微細な回路パターンの寸法測定に対応することが可能な点です。

近年、半導体の回路パターンが微細化した上、高密度化した回路の原版であるマスクのパターン寸法に対応するため、OPCパターン付きマスク(2)が使用されています。OPCパターン付きマスクの検査は光学式寸法測定装置では対応できず、電子ビームを用いたマスク用微小寸法測定装置に対する高性能化の要求はますます高まるばかりです。

なお、マスク用電子ビーム微小寸法測定装置の固有の問題点としては、

『チャージアップ』　　すなわち、絶縁体である石英ガラスでできているマスクに電子ビームを照射すると、マスクに＋(プラス)もしくは―(マイナス)の電子が蓄積し、蓄積した電子の影響で検査結果が正確でなくなる現象

『コンタミネーション』　すなわち、電子ビームを使用したマスク検査時に、試料であるマスクに主にカーボンが付着する汚染現象

があり、これを克服していることが、EMU・Zの技術特性(3)となっています。

②　EST

ESTは、EBステッパで使用されるステンシルマスク用の電子ビーム検査装置です。

現在、光学式露光装置では対応できない微細加工を行うため、EPLやLEEPL等、レーザー等ではなく電子ビームを照射することにより、解像度をより高くした次世代ステッパであるEBステッパが開発されています。

従来の石英ガラスを使用したマスクでは電子線を透過させることが出来ないため、EBステッパにおいては、穴の開いたマスク(ステンシルマスク)が使用されます。ステンシルマスクは、マスク基板(Si(シリコン)やダイヤモンド)上に電子が通過する穴があけられていて、その穴の出来栄えが精度に影響するため、マスクの表面・裏面・側壁等の欠陥検査が重要となります。

当社の製品である「EST-300」は、ステンシルマスクの検査に対応できる唯一の電子ビーム検査装置で、ステンシルマスクを上下から挟むように2つの検出器を装備することで、反射した二次電子検出による表面画像情報とステンシルマスクを透過した裏面および側面画像情報を比較することにより、マスクの表面と裏面及び孔の側壁の欠陥検査を簡単にできることが技術特性の製品であります。

③　ESPA

ESPAは、ウエハ上の回路図の線幅を電子ビームによって測定検査する電子ビーム微小寸法測定装置です。

現在当社は、シリコンウエハのコンタクトホール(4)を検査する装置等のESPAの技術を応用した製品に注力しております。

④　EBLITHO

　　EBLIHTOは、ステンシルマスクを利用した低加速電子ビーム高速転写装置です。

当社は既に、ステンシルマスクの検査装置（EST-300）をてがけており、当社が保有する低加速電子ビームをコントロールする技術を利用した製品です。

(2) その他事業

当社は、自社製品の定期点検、修理等の保守サービスに注力しています。

用語解説

(1) 半導体デバイスの製造プロセス

半導体デバイスは、ウエハ上にステッパ(縮小投影露光装置)を用いて、ICの設計パターンを原版(マスクまたはレチクル)を介して縮小転写して(ここまでを「前工程」)、その後ウエハを約１０mm角の大きさ(ICチップ)に切断し(ダイシング)、パッケージに搭載(パッケージング)すること(「後工程」)で製造されます。

半導体デバイス製造プロセス概念図

①　マスク工程

CADで作られた描画データを基に、マスク描画装置でブランクスと呼ばれる石英ガラス基盤にパターンニング(焼き付け)され、半導体デバイスの回路図のマスク(原版)が作られる。

②　フォトリソ(フォトリソグラフィー)工程

マスクは、下図のようなステッパ(縮小投影露光装置)に原版として組み込まれ、20数枚のマスクを交換しながら、ウエハに縮小転写される。

ステッパの原理

波長248nm(KrF)を使うものをKrFステッパ

波長193nm(ArF)を使うものをArFステッパ

出典：工業調査会　　当社による補足説明

③　後工程

回路図の記載されたウエハを約10mm角の大きさに切断し(ダイシング)、パッケージに搭載する(パッケージング)。

(2) OPCパターン付きマスク

高密度化したマスクを用いてウエハに転写した場合、転写後のパターン忠実性が悪く、必要とする精度で転写されなくなる場合があるため、はじめから転写の変形を見込んでパターンを補正変形してあるマスク。

OPCパターン付マスクは、微小図形が複雑に数多く配置されており、光学式寸法測定装置では検査できないため、電子ビームを光源とする微小寸法測定装置の需要が拡大しました。

OPC処理の概念

出典：工業調査会　　当社による補足説明

(3) EMU・Zの技術特性(電子ビームによるマスク用微小寸法測定装置の固有の問題点の克服)

EMU・Zは、電子ビームによるマスク用微小寸法測定装置（マスクCD-SEM）固有の問題点を、下記の技術で克服しています。

①　チャージアップ抑制技術（1）の『低加速電圧電子ビーム』

電子銃に与える電圧(アノード電圧)を＋、試料に与える電圧(バイアス電圧)を－にすることで低い電圧の電子ビームをつくり、試料のマスクが帯電するのを抑制しました。

②　チャージアップ抑制技術（2）の『低真空技術』（差動排気システム）

試料測定環境を低真空にすることで、試料を走査する電子ビームと低真空中のガス分子が衝突して＋イオンをつくり、このイオンが－帯電したマスクを電気的に中和して抑制します。

③　コンタミネーション抑制技術の『ACD』

ACDは、ガス分子の吸着率が低温になると高くなるという特性を利用して、試料付近に設置した超低温の板でコンタミネーション源であるガス分子を吸着する装置です。マスクCD-SEMにACDを適用しているのは当社だけです。

④　高分解能測定技術の『収差補正技術』

超微細パターンに対応した測定を実現させるために、収差補正機能付きレンズを低加速型のCD-SEMに世界で初めて搭載しました。従来機に比べて分解能が50％向上しました。

(4) コンタクトホール(Contact　Hole)とは、Si(シリコン)基板と第１層目を繋ぐ配線の穴です。

なお、スルーホール(Through　Hole)・ビアホール(Via　Hole)とは、多層構造で出来ているICの各層(例えば上と下の層)を繋ぐ配線の穴です。

４ 【関係会社の状況】

(注1) 「主要な事業の内容」欄には、セグメント情報に記載された名称を記載しております。

(注2) 有価証券報告書の提出会社であります。

５ 【従業員の状況】

(1) 提出会社の状況

平成26年3月31日現在

(注) １　従業員数は就業人員であります。

２　平均年間給与は、賞与及び基準外賃金を含んでおります。

３　当社は、単一セグメントであるため、事業部門別の従業員数を記載しております。

４　全社(共通)は、総務及び経営企画室等の管理部門の従業員であります。

(2) 労働組合の状況

労働組合は結成されておりませんが、労使関係は円満に推移しております。

第２ 【事業の状況】

１ 【業績等の概要】

(1) 業績

当期におけるわが国経済は、政府の経済政策や日本銀行の金融緩和策の効果により、企業収益の改善や設備投資の持ち直しの動きが見られるとともに、個人消費は消費増税前の駆け込み需要もあり景気は緩やかな回復傾向にて推移しました。しかしながら、一方で、中国をはじめとする新興国経済の減速や円安による原材料価格の上昇、また、消費増税後の物価の影響によっては今後の景気動向の変化が懸念されております。

半導体業界におきましては、スマートフォン（スマホ）やタブレット（多機能携帯端末）など携帯・通信分野で使用する半導体の需要は堅調に推移しており、半導体各社の設備投資拡大が期待される状況が続いております。

このような状況のもと、当社は半導体産業及び関連事業分野における最先端技術を支える検査計測装置を中心に事業展開しております。当社主力製品のマスクCD-SEM「Z7」は顧客より高い評価をいただき、10ナノメートルノード以下の次世代機マスクCD-SEMへの開発が望まれており、更なる開発、性能向上とともに収益体質の改善にも取り組んでおります。当期の販売計画におきまして、上期はほぼ予定通りに推移しましたが、下期の受注に期ずれが生じ当初の売上目標を下回ったものの、製造原価の逓減により損益につきましては増益する結果となりました。

また、NEDO（独立行政法人新エネルギー・産業技術総合開発機構）のイノベーション実用化ベンチャー支援事業に係る助成事業に採択された「大気開放型SEMを組み込んだ大型ロール検査装置の開発」につきまして、研究開発は今後も継続いたしますが、助成事業期間が当第４四半期に終了したため助成金63百万円は当事業年度の特別利益へ計上いたしました。

上記の結果、当期の売上高は1,067百万円（前年同期比11.9％減）となりました。損益につきましては、営業利益152百万円（前年同期比152.6％増）、経常利益154万円（前年同期比147.4％増）及び当期純利益175百万円（前年同期比69.2％増）となりました。

(2) キャッシュ・フローの状況

当事業年度末における現金及び現金同等物（以下「資金」という）は、前事業年度末に比べ199百万円増加し、443百万円となりました。

　当事業年度における各キャッシュ・フローの状況とそれらの要因は次のとおりであります。

(営業活動によるキャッシュ・フロー)

営業活動の結果獲得した資金は150百万円となりました。

これは主に、たな卸資産の増加が143百万円あった一方で、税引前当期純利益が211百万円、売上債権の減少が134百万円あったことなどによります。

(投資活動によるキャッシュ・フロー)

投資活動の結果使用した資金は217百万円となりました。                                         これは、定期預金の預入による支出が95百万円、有形固定資産の取得による支出が88百万円あったことなどによります。

(財務活動によるキャッシュ・フロー)

財務活動の結果獲得した資金は262百万円となりました。　

これは主に、短期借入金の増加が95百万円、長期借入れによる収入が200百万円あったことなどによります。

２ 【生産、受注及び販売の状況】

(1) 生産実績

当事業年度における生産実績をセグメントごとに示すと、次のとおりであります。

(注) 1　金額は、製造原価によっております。

2　上記の金額には、消費税等は含まれておりません。

(2) 受注状況

当事業年度における受注実績をセグメントごとに示すと、次のとおりであります。

(注)　上記の金額には、消費税等は含まれておりません。

(3) 販売実績

当事業年度における販売実績をセグメントごとに示すと、次のとおりであります。

(注) 主な相手先別の販売実績及び当該販売実績の総販売実績に対する割合

1　上記の金額には、消費税等は含まれておりません。

2　販売先との契約において、機密情報を保持する義務を負っているため、総販売実績に対する割合が10％以上

 　の相手先は欄外で表示しております。

 　(アルファベット順)

 　IBJL東芝リース株式会社

 　株式会社NGR

 　株式会社ニューフレアテクノロジー

 　SK HYNIX Semiconductor Inc.

 　Taiwan Semiconductor Manufacturing Co.Ltd

３ 【対処すべき課題】

① 主力製品マスクCD-SEMの技術力向上と販売活動の強化

当社主力製品のマスクCD-SEM「Z7」は、電子ビーム制御系を一新し最新のソフトウェアを搭載して高性能化を実現したことで大手半導体メーカーにおいて高く評価され受注をいただいております。

主要な課題として、10ナノメートルノード以下の次世代機マスクCD-SEMへの開発が望まれていることから、更なる性能向上を目指した製品開発で顧客の仕様ニーズに対応した商品を提供するとともに販売活動の強化を行いたいと考えております。

② 複数製品の製造・販売による経営の安定化

当社の製品構成がマスクCD-SEMに大きく依存している状況から、同装置の販売動向により業績も大きく変動するリスクを回避するために、製品のラインアップの充実を計画しております。

共同開発のロールモールド露光装置と自社開発のロールモールド評価用SEMは、半導体以外の産業分野からも高く評価され、現在も顧客の現場で応用実験が継続されております。

また、NEDO（独立行政法人新エネルギー・産業技術総合開発機構）による助成事業で採択された「大気開放型SEMを組み込んだ大型ロール検査装置の開発」の反響は大きく、大型ロール検査以外でも製品化が要望されていることから開発を進めております。

事業の柱となる新製品、新機種を順次発表して、国内外の大手半導体及び関連メーカーからの早期の受注獲得を目指し経営の安定化を図りたいと考えております。

４ 【事業等のリスク】

有価証券報告書に記載した事業の状況、経理の状況等に関する事項のうち、投資者の判断に重要な影響を及ぼす可能性のある事項には、以下のようなものがあります。
　なお、文中の将来に関する事項は、当事業年度末現在において当社が判断したものであります。

①収益構造について

当社は、半導体ウエハ及びマスク上の半導体の回路寸法を、電子ビームによって測定する微小寸法測定装置の開発・製造・販売を主たる業務としております。

このため、当社の業績は今後も半導体デバイスの微細化の進展状況等の影響を受けます。

②知的財産権について

当社の技術の中には、特許として知的財産権を獲得するよりも、ノウハウとして保有するほうが事業戦略上優位であると考えられるものもあり、必ずしも全ての技術について特許を出願する必要はないと考えております。しかしながら、一部の技術については、競争状況の変化への対応や他製品への応用を展望した場合、特許権として保護するほうが当社にとって有利と考えられるものもあり、それらについては特許として出願するものもあります。

当社は、特許の出願については、有用性及び費用対効果を考慮して行っており、当社独自の技術あるいは研究成果について、必要に応じて、また、可能な範囲において特許権等の知的財産権の登録を行い、権利保護に努めることとしておりますが、他社により当社の権利が侵害される可能性があります。

また、他社知的財産権の侵害については、細心の注意を払っており、現時点において第三者より知的財産権に関する侵害訴訟を提起されていませんが、将来他社よりその保有特許等に対する侵害の通告を受ける、あるいは当社の認識していない特許等が成立し第三者が侵害を主張する等の可能性があり、裁判等の紛争に至った場合においてはその処理に多額の費用を要し、当社業績に影響を与える可能性があります。

また、近時においては職務発明に関する対価の額について、従業員である発明者が会社を相手に訴訟を起こす事例も報告されています。当社におきましては、発明者に支給される対価の額の算定について職務発明規程を制定しておりますが、それにもかかわらず成立した特許権について発明者が対価の額を不服として会社を訴えた場合には、その結果が当社の業績に影響を与える可能性があります。

③検収時期の変動による業績変動の可能性について

当社の主力事業である製品事業では、半導体ウエハ及びマスクの微小寸法測定装置の開発・製造・販売を行っており、当該装置の１台あたりの販売価格は非常に高額となっております。

当社製品は納品までの製造工程を管理し、計画通り計上できるよう努めておりますが、得意先の検収のタイミングにより当社の業績が大きく変動する可能性があります。顧客都合によって仕様や納期が変更されることがあり、かつ1台の検査装置が高額であるため、売上を予定していた案件について検収が遅れた場合には、当社の業績は、当初の見通しを下回る可能性があります。

特に、第４四半期に売上を予定している案件が翌期の計上となった場合、売上高が計画を大きく下回る可能性があります。

④海外への売上比率が高いことについて

当社の輸出高は、売上高の相当部分を占める場合があります。

海外への販売には、通常予期しない法律や規制の変更、経済的に不利な要因の存在または発生、テロ・戦争・その他の要因による社会的又は経済的混乱等のリスクが存在します。こうしたリスクが顕在化することによって、当社の海外への販売に支障が生じ、当社の業績および将来計画に影響を与える可能性があります。

また、海外売上については為替変動の影響を受ける可能性もあります。

⑤特定の仕入先に対する仕入依存度が高い構造について

当社は製品の部品について、基本として単一の仕入先から仕入れており、特定の重要部品についても、単一の仕入先から購入しています。単一の仕入先から購入する理由は、仕入先を２箇所に分けることにより、手間、値段、安定性等に問題が生じるためです。

当社は、単一の仕入先から仕入を行うことをリスクと認識しており、問題が発生したときに対応できるよう、設計部において監視、調査をする等、対応体制を構築しております。

ただし仕入部品によっては、仕入先の事情等により当社への供給に支障を来たした場合には、当社製品の生産に大きな影響を与える可能性があります。

⑥フォトマスク市場の動向及び顧客の設備投資について

（ⅰ）フォトマスク市場の動向について

フォトマスク検査装置の需要に連動する市場としてフォトマスク市場があります。半導体を使用する最終製品であるスマートフォン（スマホ）に代表されるように、これまでより更に複雑・微細・過密な半導体が必要になっており、ひいてはマスク検査の測定点も増大するものと考えられます。従いまして、フォトマスク市場は今後も増大していくものと推定しておりますが、これらの市場動向の変動によって当社の財政状態及び経営成績は影響を受ける可能性があります。

（ⅱ） 顧客の設備投資について

当社の製品である微小寸法測定装置の販売は、顧客の設備投資動向の変動に影響を強く受けることが予測されます。当社は企業体質の強化や競争力維持に努め、顧客の設備投資動向に対処する所存ですが、顧客の設備投資の動向によって当社の財政状態及び経営成績が影響を受ける可能性があります。

⑦競合の状況について

当社の主要製品は、類似製品の販売や低価格製品の販売が行われることにより、当社の業績に影響を受ける場合があります。

マスクCD-SEMは、市場に競合会社が参入しております。

当社のマスク用電子ビームCD-SEMは、当市場に先発したデファクトスタンダードの製品であると認識していますが、競合技術が当社製品技術を上回った場合、当社の業績が影響を受ける可能性があります。

⑧電子ビーム微小寸法測定装置への依存について

当社製品は、対象がマスクとウエハであるという相違点はありますが、いずれも電子ビームを利用した微小寸法測定、検査、製造装置です。

微小寸法測定装置には、当社の採用している電子ビーム式の他に光学式があり、最近は技術革新が激しい業界であることから、当社の保有する技術は陳腐化する可能性があります。

当社はこのような技術革新に対応する為に常に新しい技術を習得し、学会や研究会へ積極的に参加し、従業員の能力を高め、顧客からのニーズに対して的確に対応していく方針ですが、技術革新や顧客からのニーズに対応できない場合ないしは劇的な技術革新が生じて当社が対応できない場合には、当社の業績に影響を受ける場合があります。

⑨研究開発投資等について

当社の事業は、顧客からの要求に応じて最先端かつ高度な技術力を提供していくことが重要な要素です。このような要求に対処し顧客満足を高め、製品の付加価値を高めていく為には自ら他社に先駆けた最先端技術の情報収集、製品の評価、品質管理に注力しているほか関連する研究開発投資を続けていく方針です。

これらの技術力を維持するために研究開発費の比率が高くなっておりますが、研究開発型企業であるため優秀な人材の確保が困難になった場合や人材の流出が生じた場合及び技術革新への対応に支障が生じた場合には、当社の競争力が低下し業績に悪影響が及ぶ可能性があります。

⑩新製品開発力について

当社の製品は革新的な技術力に裏打ちされたもので、今後も継続して魅力ある製品開発を行っていく予定ですが、開発と販売のプロセスは不確実なものであり、長期的な投資と大量の資源導入が新製品・新技術の創造へとつながる保証はなく、新製品や新技術への投資に必要な資金と資源を今後十分充当できるという保証もありません。

また、当社が顧客から支持を獲得できる新製品、新技術を正確に予想することができるとは限らず、販売が必ずしも成功する保証もありません。

このため、当社が業界と顧客の変化を十分に予測できず、魅力ある新製品を開発できない場合には業績に悪影響が及ぶ可能性があります。

⑪製品に必要とされる規格について

電子ビーム微小寸法測定装置に関して、ヨーロッパ向けにはCEマーキング、アメリカ向けにはUL/FDA等の安全規格に合致している必要があり、また、特定の取引先への納入には、ワールドワイドで共通な半導体製造、検査装置の標準仕様であるSEMIの規格に合致していることが求められています。

当社では、これらの製品安全に関する国内外事例・規格（JIS、CEマーキング、UL/FDA、SEMI）を基に製品化しており、第三者認証機関(TUV product service)の認証を取得していますが、今後、求められる製品規格に変更があり、当社がこれに対応できない場合には、当社の業績に影響が出る可能性があります。

５ 【経営上の重要な契約等】

共同開発契約

販売代理店契約

金銭消費貸借契約

当該金銭消費貸借契約は平成26年２月25日に契約満了しております。

６ 【研究開発活動】

当社は、半導体産業及び関連する事業及び分野において、顧客の最先端技術への要望に呼応しながら製品の継続的な性能向上と商品開発に努めております。

当事業年度におきまして、主力製品であるマスクCD-SEMの技術力の向上及び顧客指向の開発で好評を得ております「Z7」は、MAMtime(*1)、測定再現性及び解像度(*2)、2D測定(*3)を装備して更なる進化を得ております。

(*1)は測定時間の高速化であり、画像位置出し精度の向上でレーザー干渉計を差動型に変更して精度向上にし、(*2)は測定する場合の画素数の増加とS/Nにより寄与します。(*3)は輪郭抽出の精度を向上することをいい、それはこれからの検査の方法を位置付ける要素で設計データとの比較において大変重要であり、(*1)と(*2)の環境とソウトウエアの適合により実現しました。この2D測定は、平成26年2月の米国SPIE国際会議（国際光工学会）にて『Accurate Contour Extraction System of Mask SEM Image』論文を発表しております。

大気開放型SEMにつきましては、一般のSEMには観察試料を置くための真空の試料室が必要となります。しかし、大気開放型SEMではその真空の試料室が不要となり、真空試料室に入れることが困難で、光学顕微鏡装置でしか観察出来なかった大型試料（大型ロールや液晶パネル等）のSEMによる詳細な観察が可能となることが大きなメリットです。これらは当社の「EBLITHO」を基本とするロールモールド露光装置やロールSEM装置の延長上にある技術だけではなく、水分を含む試料等の観察も可能となり、生物や医学といった新しい分野でも応用可能な技術であります。本開発はNEDO(独立行政法人 新エネルギー・産業技術総合開発機構)のイノベーション実用化ベンチャー支援事業に係る助成事業に採択されました。

NIL(ナノインプリントリソグラフィー)ナノパターンの観察測定ができるCD-SEMの開発は、EUV露光技術が停滞しているなか、これからのリソグラフィーの開発・技術において最も重要な位置付けと考えております。石英基板とするNILテンプレートは、ナノメートルパターンを絶縁体表面加工した物で、従来のSEMでは観察不可能であり、当社独自の低真空技術である帯電防止と収差補正器によって観察測定を可能とする高分解能CD-SEMを視野に入れております。

LEXa(Low Energy X-ray Analyzer)装置の開発は、EDS(Energy dispersive X-ray spectrometry)エネルギー分散型X線分析装置を装備して試料に付着したparticleまたは物体の構成する元素について広範囲の分析を目的としています。この成果として、平成25年11月に札幌で開催された「第26回マイクロプロセス・ナノテクノロジー国際会議（MNC 2013）」において『LEXa-7』装置を発表しました。

上記の通り、今後も基礎として次世代への商品開発と顧客指向を満足させる開発とを継続して行きたいと考えております。

当事業年度の研究開発スタッフは６名、研究開発費は98,957千円となっております。

７ 【財政状態、経営成績及びキャッシュ・フローの状況の分析】

文中における将来に関する事項は、当事業年度末現在において当社が判断したものであります。

(１) 重要な会計方針及び見積り

　当社の財務諸表は、わが国において一般に公正妥当と認められる会計基準に基づいて作成しております。

　この財務諸表の作成にあたって、必要と思われる見積りは合理的な基準に基づいて計上しておりますが、見積りには不確実性が伴い、実際の結果は異なる場合があります。

(２) 経営成績の分析

　当社は、半導体マスク上の回路寸法を、電子ビームによって測定する微小寸法測定装置の開発・製造・販売を主たる業務としております。

　当事業年度は、装置売上に期ずれが生じたため、当初目標を下回り売上高は1,067百万円（前期比11.9％減）となりました。

　損益につきましては、コスト削減、原価低減に対する改善努力により、営業利益152百万円（前期比152.6%増）、経常利益154百万円（前期比147.4%増）、また、第４四半期会計期間において、NEDOのイノベーション実用化ベンチャー支援事業に係る助成金63百万円を補助金収入として特別利益に計上しておりますので、当期純利益175百万円（前期比69.2%増）となりました。

地域別の販売実績の特徴としては、アジアを中心とする半導体需要は継続しており、アジア向け売上高が436百万円（前期比33.4％減）となりました。

地域別の販売実績は、下表のようになっております。

当事業年度は、国内向けの製品販売が全売上高の58.9％を占めており、その結果、海外向け売上高が全売上高の41.1％となりました。

(注)　金額には、消費税等は含まれていません。

(３) 財政状態に関する分析

 資産、負債及び純資産の状況

（イ）資産

流動資産は、前事業年度末に比べて33.6％増加し,1,189百万円となりました。これは主として、売掛金が136百万円減少した一方,現金及び預金が294百万円及び仕掛品が145百万円増加したことなどによります。

　固定資産は、前事業年度末に比べて84.3％増加し、284百万円となりました。これは、有形固定資産が94百万円、無形固定資産が29百万円増加したことなどによります。
　この結果、総資産は、前事業年度末に比べて41.1％増加し、1,474百万円となりました。

（ロ）負債

　流動負債は、前事業年度末に比べて15.8％増加し、562百万円となりました。これは主として、支払手形、電子記録債務及び買掛金が51百万円減少した一方、短期借入金が95百万円、1年内返済予定の長期借入金が34百万円増加したことなどによります。
　固定負債は、前事業年度末に比べて119.7％増加し、325百万円となりました。これは主として長期借入金が134百万円増加したことなどによります。
　この結果、負債合計は、前事業年度末に比べて40.1％増加し、887百万円となりました。

（ハ）純資産

　純資産合計は、前事業年度末にに比べて42.7％増加し、587百万円となりました。これは利益剰余金が175百万円増加したことによるものであります。

(４) キャッシュ・フローの分析

当事業年度末における現金及び現金同等物（以下「資金」という）は、前事業年度末に比べ199百万円増加し、443百万円となりました。

　当事業年度における各キャッシュ・フローの状況とそれらの要因は次のとおりであります。

(営業活動によるキャッシュ・フロー)

営業活動の結果獲得した資金は150百万円となりました。

これは主に、たな卸資産の増加が143百万円あった一方で、税引前当期純利益が211百万円、売上債権の減少が134百万円あったことなどによります。

(投資活動によるキャッシュ・フロー)

投資活動の結果使用した資金は217百万円となりました。

　これは主に、定期預金の預入による支出が95百万円、有形固定資産の取得による支出が88百万円あったことなどによります。

(財務活動によるキャッシュ・フロー)

財務活動の結果獲得した資金は262百万円となりました。　

これは主に、短期借入金の増加が95百万円、長期借入れによる収入が200百万円あったことなどによります。

当社のキャッシュ・フロー指標のトレンドは下記のとおりであります。

　(注)　各比率の算定方法は、以下のとおりであります。

自己資本比率：自己資本 ÷ 総資産

キャッシュ・フロー対有利子負債比率：有利子負債 ÷ 営業活動によるキャッシュ・フロー

インタレスト・カバレッジ・レシオ：営業活動によるキャッシュ・フロー ÷ 利払い

第３ 【設備の状況】

１ 【設備投資等の概要】

当事業年度の設備投資等の総額は157百万円であり、製造設備の更新として工具器具備品5百万円、建設仮勘定86百万円、リース資産25百万円、製品組込ソフトウェアなど38百万の投資を実施しました。

２ 【主要な設備の状況】

平成26年３月31日現在

(注) １　金額には消費税等は含まれておりません。

２　現在休止中の設備はありません。

３　帳簿価額のうち、「その他」は、構築物、機械及び装置、車両運搬具、リース資産、建設仮勘定、ソフトウェア仮勘定の合計であります。

３ 【設備の新設、除却等の計画】

(1) 重要な設備の新設等

該当事項はありません。

(2) 重要な設備の除却等

該当事項はありません。

第４ 【提出会社の状況】

１ 【株式等の状況】

(1) 【株式の総数等】

① 【株式の総数】

② 【発行済株式】

(2) 【新株予約権等の状況】

該当事項はありません。

(3) 【行使価額修正条項付新株予約権付社債券等の行使状況等】

該当事項はありません。

(4) 【ライツプランの内容】

該当事項はありません。

(5) 【発行済株式総数、資本金等の推移】

(注) 平成25年９月30日の株主名簿に記載された株主に対し、１株につき100株の割合をもって分割いたしました。

(6) 【所有者別状況】

平成26年３月31日現在

（注）平成25年８月８日開催の当社取締役会の決議により、平成25年10月１日付で１単元の株式数は１株から100株となっております。

(7) 【大株主の状況】

平成26年３月31日現在

(8) 【議決権の状況】

① 【発行済株式】

平成26年３月31日現在

② 【自己株式等】

平成26年３月31日現在

(9) 【ストックオプション制度の内容】

該当事項はありません。

２ 【自己株式の取得等の状況】

【株式の種類等】 該当事項はありません。

(1) 【株主総会決議による取得の状況】

該当事項はありません。

(2) 【取締役会決議による取得の状況】

該当事項はありません。

(3) 【株主総会決議又は取締役会決議に基づかないものの内容】

該当事項はありません。

(4) 【取得自己株式の処理状況及び保有状況】

該当事項はありません。

３ 【配当政策】

当社は、株主の皆様に対する利益還元につきましては経営の重要事項として認識しており、経営基盤の充実及び事業拡大に向けての内部留保の充実を図りつつ、収益やキャッシュ・フローの状況に応じた株主に対する適切な配当を実施していくことを基本方針としております。

しかしながら、現時点におきましては多額の累積損失が存在しており、当面は早期の累積損失の解消と内部留保の充実を図っていく方針であります。そのため、誠に遺憾ながら引続き配当を見送らせていただきました。

当社の剰余金の配当は、中間配当及び期末配当の年2回を基本的な方針としております。配当の決定機関は、中間配当は取締役会、期末配当は株主総会であります。

また、内部留保資金につきましては、変化の激しい半導体業界の中にあって、企業体質の強化ならびに新製品開発等の効果的な投資に役立てていく方針であります。

４ 【株価の推移】

(1) 【最近５年間の事業年度別最高・最低株価】

(注)１.　株価は、平成22年３月31日以前はジャスダック証券取引所におけるものであり、平成22年４月１日から平成22年10月11日までは大阪証券取引所(JASDAQ市場)におけるものであり、平成22年10月12日以降は大阪証券取引所JASDAQ(スタンダード)におけるものであり、平成25年７月16日以降は東京証券取引所JASDAQ(スタンダード)におけるものであります。

２.　※印は株式分割（平成25年10月１日、１株につき100株）による権利落後の株価であります。

(2) 【最近６月間の月別最高・最低株価】

(注)　株価は、東京証券取引所JASDAQ(スタンダード)におけるものであります。

５ 【役員の状況】

(注) １　取締役　澤良木　宏は、社外取締役であります。

２　監査役　齊藤　秀一及び齋藤　正祐は、社外監査役であります。

３　取締役の任期は、平成26年3月期に係る定時株主総会終結の時から平成28年3月期に係る定時株主総会終結の時までであります。

４　監査役の任期は、平成23年3月期に係る定時株主総会終結の時から平成27年3月期に係る定時株主総会終結の時までであります。

５　監査役の任期は、平成25年3月期に係る定時株主総会終結の時から平成29年3月期に係る定時株主総会終結の時までであります。

６ 【コーポレート・ガバナンスの状況等】

(1) 【コーポレート・ガバナンスの状況】

①　企業統治の体制

当社における、企業統治の体制は、法令遵守体制の確立、リスク管理、社会的責任、そして適切な内部統制システムを維持するための重要な考え方と認識しており、取締役会の機能強化、監査役・経営企画室の連携の強化を図るとともに、投資者に対するアカウンタビリティとディスクロージャーの徹底を図り、企業統治をより一層推進していきたいと考えております。

イ　企業統治の体制の概要及びその体制を採用する理由

当社は監査役会制度を採用し、監査役会を設置しております。有価証券報告書提出日現在、監査役は常勤１名、非常勤２名の３名の体制であり、監査役は取締役会への出席を通じて取締役会の業務執行にかかわる監視・監督機能を果たしております。

また、取締役会は、代表取締役１名、取締役６名の計７名のほか既述通り監査役３名が出席しております。臨時を除く通常の取締役会は毎月１回開催し取締役会規程に基づいて付議事項の決裁及び適宜各取締役による業務報告を行っております。

ロ　内部統制システムの整備の状況

当社の内部統制の模式図は以下の通りであります。

当社の内部統制システムといたしましては、業務分掌を明確化し各部門間の内部牽制体制が機能する仕組みを整備しております。また、統制手段としては社内規程等の整備を図り、適正な運用管理を行うとともに、経営企画室が会計監査人、監査役と連携して逐次監査を実施しております。

ハ　リスク管理体制の整備の状況

当社のリスク管理体制は、企業倫理の重要性を認識し、法律を遵守した行動をすることを第一義と考えており、リスクマネジメントポリシー及びリスクマネジメント規程を制定し、社内における企業倫理の徹底に取り組んでおります。このような観点より、取締役会、監査役といった機関によるリスク管理のほか、内部監査機能を充実させております。

ニ　反社会的勢力排除に向けた基本的な考え方及びその整備の状況

当社は、社会の秩序や安全に脅威を与える反社会的勢力及び団体に対して従来どおり、関係を遮断し、不当、不法な要求に対しては毅然とした姿勢で臨み、決してかかる要求に応じないこととしています。

また、当社は、コンプライアンス規程に基づき、社長を責任者として、反社会的勢力及び団体から不当、不法な要求を受けた場合は、速やかに警察等外部機関と連携し、関係部署が連携、協力して組織的に対応します。

ホ　責任限定契約の内容の概要

当社と会計監査人アーク監査法人は、会社法第427条第１項の定めに基づき責任限定契約を締結しております。その契約内容の概要は次のとおりです。

アーク監査法人の本契約の履行に伴い生じた損害は、アーク監査法人に悪意または重大な過失があった場合を除き、アーク監査法人の会計監査人としての在職中に報酬その他の職務執行の対価として当社から受け、または受けるべき財産上の利益額の事業年度ごとの合計額のうち最も高い額に二を乗じて得た額のいずれか高い額をもって、当社に対する損害賠償責任の限度額とする。

②　内部監査及び監査役監査

当社の内部監査及び監査役監査の組織は、当社内の各部における業務執行の適切性、健全性を確保するとともに業務の一層の効率化を図ることを目的として、内部監査の機能を担うものとして経営企画室が設けられており、経営企画室は平成26年３月末現在、２名の体制にて内部監査規程に従い、会計監査及び業務監査を実施しております。会計監査は会計監査人と、業務監査は監査役との連携により、随時各々監査を行っております。

③　社外取締役及び社外監査役

当社の社外取締役は１名であります。また、社外監査役は２名であります。

取締役の澤良木　宏氏は、関連当事者で当社株式の30.58％を保有する株式会社エー・アンド・デイの設計開発本部部長を務められており、工学博士としての専門知識及び豊富な経験をもとに、専門的見地による適切な助言をいただいております。

また、監査役の齊藤　秀一及び齋藤　正祐の両氏は、企業経営者としての豊富な経験、幅広い知見を有しており経営全般の監視と有効な助言をいただいております。齊藤　秀一氏と当社との間には特別な利害関係はありませんが、齋藤　正祐氏はアドバンストシステムズ株式会社の代表取締役を務められ、同社と当社との間にはシステム開発の取引関係があり、当事業年度における当社の仕入実績は売上高の3.3％であります。

かつ、監査役の齊藤　秀一氏は、独立性が高く、一般株主との利益相反の生じるおそれがないものと判断し東京証券取引所の定めに基づく独立役員に指定しております。

当社は、経営の監視・監督機能を強化するため、社外取締役及び社外監査役を選任しております。社外取締役は、経営者として豊富な経験と幅広い見識があり、当社の経営を監督して頂けるような経営者や有識者等から選任し、当社の経営を監督していただくとともに、当社の経営全般に助言を頂戴することによりコーポレートガバナンス強化に寄与して頂いております。社外監査役は、監査体制の独立性を高め、客観的な立場から監査意見を表明することで、当社の企業統治の有効性に大きく寄与しているものと考えております。

当社において、社外取締役及び社外監査役を選任するための独立性について特段の定めはありませんが、専門的な知見に基づく客観的かつ適切な監督または監査といった機能及び役割が期待され、一般株主と利益相反が生じるおそれがないことを基本的な考え方として、選任しております。　

なお、社外取締役及び社外監査役による監督または監査と内部監査、監査役監査及び会計監査との相互連携並びに経営企画室との関係につきましては、取締役会、監査役会及びリスク管理委員会等において適宜報告及び意見交換がなされております。　

④　役員の報酬等

イ　役員区分ごとの報酬等の総額、報酬等の種類別の総額及び対象となる役員の員数

（注）　 上記には、無報酬の社外取締役１名は含んでおりません。

ロ　役員ごとの報酬等の総額等

報酬等の総額が１億円以上である者が存在しないため、記載しておりません。

ハ　役員の報酬等の額又はその算定方法の決定に関する方針

当社は役員の報酬等の額又はその算定方法の決定に関する方針は定めておりません。

⑤　株式の保有状況

該当事項はありません。

⑥　会計監査の状況

（業務を執行した公認会計士の氏名、所属する監査法人名）

業務を執行した公認会計士の氏名 所属監査法人 継続監査年数 吉村 淳一 アーク監査法人 （注）1 上田 正樹 （注）1

（注）1.　７年以内であるため記載を省略しております。

＊　監査業務に係る補助者の構成

公認会計士　４名　　その他　８名　

⑦　取締役会で決議できる株主総会決議事項

該当事項はありません。

⑧　取締役の定数

当社の取締役は10名以内とする旨を定款で定めております。

⑨　取締役の選任の決議要件

取締役の選任決議は、議決権を行使することができる株主の議決権の３分の１以上を有する株主が出席し、その議決権の過半数をもって行う旨を定款で定めております。

⑩　株主総会の特別決議要件

当社は、会社法第309条第２項に定める決議は、議決権を行使することができる株主の議決権の３分の１以上を有する株主が出席し、その議決権の３分の２以上をもって行う旨定款に定めております。これは、株主総会における特別決議の定足数を緩和することにより、株主総会の円滑な運営を行うことを目的とするものであります。

⑪ 自己の株式の取得について

当社は、会社法第165条第2項の規定により、取締役会の決議により自己の株式を取得することができる旨を定款で定めております。これは、機動的な資本政策の遂行を可能とすることを目的とするものであります。

⑫ 中間配当

当社は、会社法第454条第５項の規定により、取締役会の決議によって、毎年９月30日を基準日として中間配当をすることができる旨定款に定めております。これは、株主への機動的な利益還元を行うことを目的とするものであります。

⑬ 取締役及び監査役の責任免除

当社は、取締役及び監査役（取締役及び監査役であった者を含む。）の会社法第423条第１項の責任につき、善意でかつ重大な過失がない場合は、取締役会の決議によって、法令の定める限度額の範囲内で、その責任を免除することができる旨定款に定めております。これは、取締役及び監査役が職務を遂行するにあたり、期待される役割を十分に発揮できるようにするためであります。

(2) 【監査報酬の内容等】

① 【監査公認会計士等に対する報酬の内容】

② 【その他重要な報酬の内容】

該当事項はありません。

③ 【監査公認会計士等の提出会社に対する非監査業務の内容】

該当事項はありません。

④ 【監査報酬の決定方針】

当社の監査法人に対する監査報酬の決定方針につきましては、監査日数、提出会社の規模・業務の特性等の要素を勘案し決定しています。

第５ 【経理の状況】

１　財務諸表の作成方法について

当社の財務諸表は、「財務諸表等の用語、様式及び作成方法に関する規則」(昭和38年大蔵省令第59号。以下「財務諸表等規則」という。)に基づいて作成しております。
　なお、当事業年度（平成25年４月１日から平成26年３月31日まで）の財務諸表に含まれる比較情報については、「財務諸表等の用語、様式及び作成方法に関する規則等の一部を改正する内閣府令」（平成24年９月21日内閣府令第61号）附則第２条第２項により、改正前の財務諸表等規則に基づいて作成しております。

２　監査証明について

当社は、金融商品取引法第193条の２第１項の規定に基づき、事業年度(平成25年４月１日から平成26年３月31日まで)の財務諸表について、アーク監査法人により監査を受けております。

３　連結財務諸表について

当社は子会社がありませんので、連結財務諸表を作成しておりません。

４　財務諸表等の適正性を確保するための特段の取組みについて

当社は、会計基準等の内容を適切に把握できる体制を整備するため、公益財団法人財務会計基準機構へ加入しております。

１ 【財務諸表等】

(1) 【財務諸表】

①【貸借対照表】

②【損益計算書】

【製造原価明細書】

(脚注)

(原価計算の方法)

当社の原価計算 の方法は、個別原価計算によっております。

③【株主資本等変動計算書】

  前事業年度(自 平成24年４月１日　至 平成25年３月31日)

  当事業年度(自 平成25年４月１日　至 平成26年３月31日)

④【キャッシュ・フロー計算書】

【注記事項】

(継続企業の前提に関する事項)

該当事項はありません。

(重要な会計方針)

１　たな卸資産の評価基準及び評価方法

  　  仕掛品及び原材料

個別法による原価法(収益性の低下による簿価切下げの方法)を採用しております。 ２　固定資産の減価償却の方法

  (1) 有形固定資産（リース資産を除く）

      定率法を採用しております。ただし、平成10年４月１日以降に取得した建物（建物附属設備は除く）　　

      については、定額法を採用しております。

      なお、主な耐用年数は次のとおりであります。

      建物　14年

      工具器具備品 　4～8年

  (2) 無形固定資産（リース資産を除く）

自社利用のソフトウェアについては、社内における利用可能期間(５年)に基づく定額法、製品組込ソフトウェアについては、有効期間（３年以内）に基づく定額法を採用しております。

  (3) リース資産

所有権移転外ファイナンス・リース取引に係るリース資産

リース期間を耐用年数とし、残存価額を零とする定額法を採用しております。 ３  引当金の計上基準

  (1) 貸倒引当金

債権の貸倒れによる損失に備えるため、一般債権については貸倒実績率により、貸倒懸念債権等特定の債権については個別に回収可能性を検討し、回収不能見込額を計上しております。

  (2) 賞与引当金

従業員賞与の支給に備えるため、賞与支給見込額の当期負担額を計上しております。

  (3) 製品保証引当金

製品の無償補修費用の支出に備えるため、保証期間内の無償補修費用見積額を計上しております。

  (4) 退職給付引当金

従業員の退職給付に備えるため、退職給付引当金及び退職給付費用の計算に、退職給付に係る期末自己都合要支給額を退職給付債務とする方法を用いた簡便法を適用し、当期末において発生していると認められる額を計上しております。 ４  キャッシュ・フロー計算書における資金の範囲

キャッシュ・フロー計算書における資金(現金及び現金同等物)は、手許現金、随時引き出し可能な預金及び容易に換金可能であり、かつ、価値の変動について僅少なリスクしか負わない取得日から3ヶ月以内に償還期限の到来する短期投資からなっております。 ５　その他財務諸表作成のための基本となる重要な事項

    消費税等の処理方法

消費税等の会計処理は、税抜方式によっております。ただし、資産に係る控除対象外消費税等は発生事業年度の期間費用として処理しております。

(貸借対照表関係)

※１　担保資産及び担保付債務

      担保に供している資産は次のとおりであります。

      担保付債務は以下の通りであります。

※２  関係会社に対する資産及び負債

区分掲記されたもの以外で各科目に含まれているものは、次のとおりであります。

　３  受取手形割引高

※４  期末日満期手形

期末日満期手形の会計処理については、手形交換日をもって決済処理しております。なお、前事業年度の期末日が金融機関の休日であったため、次の期末日満期手形が、期末残高に含まれております。

(損益計算書関係)

※1　一般管理費に含まれる研究開発費

※2　通常の販売目的で保有する棚卸資産の収益性の低下による簿価切下額(△は戻入益）

※3　関係会社に対する営業外費用

※4　補助金収入

  　前事業年度（自 平成24年４月１日　至　平成25年３月31日）

補助金収入は、NEDO(独立行政法人　新エネルギー・産業技術総合開発機構）のイノベーション実用化ベンチャー　支援事業に係る助成金であります。

　  当事業年度（自 平成25年４月１日　至　平成26年３月31日）

補助金収入は、NEDO(独立行政法人　新エネルギー・産業技術総合開発機構）のイノベーション実用化ベンチャー　支援事業に係る助成金であります。

※5　平成26年２月に発生した本社における雪害による損失を、災害による損失として特別損失に計上しております。

災害による損失の内訳は次のとおりであります。

　災害資産の原状回復費用　　6,064千円

(株主資本等変動計算書関係)

前事業年度(自　平成24年４月１日　至　平成25年３月31日）

１　発行済株式に関する事項

２　自己株式に関する事項

該当事項はありません。

３　新株予約権等に関する事項

該当事項はありません。

４　配当に関する事項

　(1) 配当金支払額

該当事項はありません。

　(2) 基準日が当事業年度に属する配当のうち、配当の効力発生日が翌事業年度となるもの

該当事項はありません。

当事業年度(自　平成25年４月１日　至　平成26年３月31日）

１　発行済株式に関する事項

（変動事由の概要）

当社は、平成25年10月１日を効力発生日として、普通株式１株につき100株の割合で株式分割を行ったため、平成25年10月１日付で普通株式の発行済株式数は3,307,095株増加し、3,340,500株となっております。

２　自己株式に関する事項

該当事項はありません。

３　新株予約権等に関する事項

該当事項はありません。

４　配当に関する事項

　(1) 配当金支払額

該当事項はありません。

　(2) 基準日が当事業年度に属する配当のうち、配当の効力発生日が翌事業年度となるもの

該当事項はありません。

(キャッシュ・フロー計算書関係)

※1　現金及び現金同等物の期末残高と貸借対照表に掲記されている科目の金額との関係

(リース取引関係)

所有権移転外ファイナンス・リース取引に係るリース資産

 　1　リース資産の内容

      　有形固定資産

      主として、クリーンルームエアコン（工具、器具及び備品)であります。

  ２　リース資産の減価償却の方法

重要な会計方針「２ 固定資産の減価償却の方法」に記載のとおりです。

(金融商品関係)

１  金融商品の状況に関する事項

（1）金融商品に対する取組方針

当社は、資金運用については短期的な預金等に限定し、また、資金調達については銀行借入又は主要株主からの借入による方針です。デリバティブは、全く利用しておりません。

（2）金融商品の内容及びそのリスク並びにリスク管理体制

営業債権である受取手形及び売掛金は、顧客の信用リスクに晒されています。当該リスクに関しては、当社の与信管理に従い、取引先ごとの期日管理及び残高管理を行う体制としています。
営業債務である支払手形、電子記録債務及び買掛金は、そのほとんどが１年以内の支払期日です。
　借入金のうち、短期借入金は主に営業取引に係る資金調達であり、長期借入金（原則として5年以内）は主に開発投資に係る資金調達です。
　また、営業債務は流動性リスクに、借入金は流動性リスク及び金利変動リスクに晒されていますが、当社では、月次に資金繰計画を作成するなどの方法により管理しています。

（3）金融商品の時価等に関する事項についての補足説明

金融商品の時価には、市場価格に基づく価額のほか、市場価格がない場合には合理的に算定された価額が含まれております。当該価額の算定においては変動要因を織り込んでいるため、異なる前提条件等を採用することにより、当該価額が変動することもあります。

（4）信用リスクの集中

当事業年度の決算日現在における営業債権のうち、78.6%が特定にの大口顧客に対するものであります。

２　 金融商品の時価等に関する事項

貸借対照表計上額、時価及びこれらの差額については、次のとおりであります。

  前事業年度（平成25年３月31日）                                       　         (単位：千円）

　　　(※) 負債に計上されているものについては、（ ）で示しています。

  当事業年度（平成26年３月31日）                                       　         (単位：千円）

　　　(※) 負債に計上されているものについては、（ ）で示しています。

（注1）金融商品の時価の算定方法に関する事項

(1)現金及び預金、(2)受取手形及び売掛金、(3)支払手形、電子記録債務及び買掛金、および(4)短期借入金

これらは短期間で決済されるため、時価は帳簿価額にほぼ等しいことから、当該帳簿価額によっています。

(5) 長期借入金(1年内返済予定の長期借入金含む)

長期借入金の時価については、元利金の合計額を同様の新規借入を行った場合に想定される利率で割り引いた現在価値により算定しております。　

  (表示方法の変更)

前事業年度において区分掲記していた「1年以内返済予定の長期借入金」は借入金の時価をより適切に表示するため、当事業年度より「長期借入金」に含めて表示しております。この表示方法の変更を反映させるため、前事業年度の注記の組替えを行っております。なお、前事業年度の「1年以内返済予定の長期借入金」は、31,430千円であります。

（注2）金銭債権の決算日後の償還予定額　　

  前事業年度（平成25年３月31日）             　         (単位：千円）

  当事業年度（平成26年３月31日）            　          (単位：千円）

（注3）長期借入金、その他有利子負債の決算日後の返済予定額　　

  前事業年度（平成25年３月31日）                                       　         (単位：千円）

  当事業年度（平成26年３月31日）                                      　          (単位：千円）

(有価証券関係)

該当事項はありません。

(デリバティブ取引関係)

該当事項はありません。

(退職給付関係)

     前事業年度（自 平成24年４月１日 至 平成25年３月31日）

１　採用している退職給付制度の概要

当社は、確定給付型の制度として退職一時金制度を採用しております。なお、当社は、退職給付債務及び退職給付費用の算定にあたり、簡便法を採用しております。

２　退職給付債務に関する事項

３　退職給付費用に関する事項

４　退職給付債務等の計算の基礎に関する事項

当社は、退職給付費用の算定にあたり、簡便法を採用しておりますので、基礎利率等については記載しておりません。

    当事業年度（自 平成25年４月１日 至 平成26年３月31日）

１　採用している退職給付制度の概要

当社は、確定給付型の制度として、退職一時金制度を採用しております。なお、当社は、退職給付債務及び退職給付費用の算定にあたり、簡便法を採用しております。

２　確定給付制度

(1)簡便法を適用した制度の、退職給付引当金の期首残高と期末残高の調整表

(2)退職給付債務の期末残高と貸借対照表に計上された退職給付引当金の調整

(3)退職給付費用

　簡便法で計算した退職給付費用　　　　　　　　　　　　　9,615千円

(税効果会計関係)

１　繰延税金資産及び繰延税金負債の発生の主な原因別の内訳

２．法定実効税率と税効果会計適用後の法人税等の負担率との間に重要な差異があるときの、当該差異の原因となった主要な項目別の内訳

３.　法人税等の税率の変更による繰延税金資産及び繰延税金負債の金額の修正

　　「所得税法等の一部を改正する法律」(平成26年法律第10号)が平成26年3月31日に公布にされ、平成26年4月１日以後に開始する事業年度から復興特別法人税が課されないことになりました。これに伴い、繰延税金資産及び繰延税金負債の計算に使用する法定実効税率は、平成26年4月1日に開始する事業年度に解消が見込まれる一時差異については従来の37.75%から35.37%になります。なお、この税率変更による影響は軽微であります。

(持分法損益等)

関連会社がないため、記載しておりません。

(企業結合等関係)

該当事項はありません。

(資産除去債務関係)

該当事項はありません。

(賃貸等不動産関係)

該当事項はありません。

(セグメント情報等)

【セグメント情報】

当社は、電子ビーム技術を応用した製品・サービスの単一事業となっています。したがって、当社は、「電子ビーム関連」を単一の報告セグメントとしているため、記載を省略しております。

【関連情報】

   前事業年度(自　平成24年４月１日　至　平成25年３月31日)

１　製品及びサービスごとの情報

単一の製品・サービス区分の外部顧客への売上高が損益計算書の売上高の90％を超えるため、記載を省略しております。

２　地域ごとの情報　

（1）売上高

(単位：千円)

(注)　売上高は顧客の所在地を基礎としており、国又は地域に分類しております。

（2）有形固定資産

本邦に所在している有形固定資産の金額が貸借対照表の有形固定資産の金額の90％を超えるため、記載を省略しております。

３　主要な顧客ごとの情報

(単位：千円)

1　上記の金額には、消費税等は含まれておりません。

2　販売先との契約において、機密情報を保持する義務を負っているため、総販売実績に対する割合が10％以上

 　の相手先は欄外で表示しております。

 　(アルファベット順)

　 IBJL東芝リース株式会社

 　Taiwan Semiconductor Manufacturing Co.Ltd 

   当事業年度(自　平成25年４月１日　至　平成26年３月31日)

１　製品及びサービスごとの情報

単一の製品・サービス区分の外部顧客への売上高が損益計算書の売上高の90％を超えるため、記載を省略しております。

２　地域ごとの情報　

（1）売上高

(単位：千円)

(注)　売上高は顧客の所在地を基礎としており、国又は地域に分類しております。 

（2）有形固定資産

本邦に所在している有形固定資産の金額が貸借対照表の有形固定資産の金額の90％を超えるため、記載を省略しております。

３　主要な顧客ごとの情報

(単位：千円)

1　上記の金額には、消費税等は含まれておりません。

2　販売先との契約において、機密情報を保持する義務を負っているため、総販売実績に対する割合が10％以上

 　の相手先は欄外で表示しております。

 　(アルファベット順)

　 株式会社NGR

　 株式会社ニューフレアテクノロジー

 　SK HYNIX Semiconductor Inc. 【報告セグメントごとの固定資産の減損損失に関する情報】

該当事項はありません。 【報告セグメントごとののれんの償却額及び未償却残高に関する情報】

該当事項はありません。 【報告セグメントごとの負ののれん発生益に関する情報】

該当事項はありません。

【関連当事者情報】

前事業年度(自　平成24年４月１日　至　平成25年３月31日)

１　関連当事者との取引

(1) 財務諸表提出会社の親会社及び主要株主(会社等に限る)等

(注)　取引条件及び取引条件の決定方針等

　(資金の借入)
　　　貸付極度額　2億円
　　　資金使途　運転資金
　　　利率　短期プライムレートに年利率0.3％加算した年利率

当事業年度(自　平成25年４月１日　至　平成26年３月31日)

１　関連当事者との取引

(1) 財務諸表提出会社の親会社及び主要株主(会社等に限る)等

(注)１ 取引条件及び取引条件の決定方針等

　(資金の借入)
　　　貸付極度額　2億円
　　　資金使途　運転資金
　　　利率　短期プライムレートに年利率0.3％加算した年利率

　　２ 取引条件の変更

　当該金銭消費貸借契約は平成26年２月25日に契約満了しております。

(１株当たり情報)

(注) １．潜在株式調整後１株当たり当期純利益金額については、潜在株式が存在しないため、記載しておりません。

　 　２．１株当たり当期純利益金額の算定上の基礎は、以下のとおりであります。

３．１株当たり純資産額の算定上の基礎は、以下のとおりであります。

４. 当社は平成25年10月１日付で普通株式１株につき100株の株式分割を行っております。これに伴い、前事業年度の期首に当該株式分割が行われたと仮定して１株当たり純資産額及び１株当たり当期純利益金額を算定しております。

(重要な後発事象)

該当事項はありません。

⑤ 【附属明細表】

【有形固定資産等明細表】

(注) 当期増減の主なもの

　建設仮勘定の増加　大気圧SEM

　リース資産の増加　クリーンルームエアコン工事

　ソフトウェア及びソフトウェア仮勘定の増加　製品組込ソフトウェアのCD-SEM

【社債明細表】

該当がありませんので、記載しておりません。

【借入金等明細表】

(注) １　「平均利率」については、借入金の期末残高に対する加重平均利率を記載しております。

２　リース債務の平均利率については、一部のリース取引についてリース料総額に含まれる利息相当額を控除する前の金額でリース債務を貸借対照表に計上しているため、「平均利率」を記載しておりません。

３　長期借入金(１年以内に返済予定のものを除く)及びリース債務（１年以内に返済予定のものを除く）の貸借対照表日後５年内における1年ごとの返済予定額

【引当金明細表】

(注) 製品保証引当金の当期減少額（その他）は、製品保証に係る費用負担見込額の減少に伴う取崩しであります。

【資産除去債務明細表】

該当がありませんので、記載しておりません。

(2) 【主な資産及び負債の内容】

①　資産の部

ａ　現金及び預金

b　受取手形

イ　相手先別内訳

　ロ　期日別内訳

c　売掛金

イ　相手先別内訳

ロ　売掛金の発生及び回収並びに滞留状況

(注)　消費税等の会計処理は税抜方式を採用していますが、上記金額には消費税等が含まれております。

d 仕掛品

e　原材料

②　負債の部

ａ　支払手形

イ　相手先別内訳

　ロ　期日別内訳

b　電子記録債務

c　買掛金

d 退職給付引当金

(3) 【その他】

当事業年度における四半期情報等

（注）当社は平成25年10月１日付で普通株式１株につき100株の株式分割を行っております。これに伴い、当事業年度の期首に当該株式分割が行われたと仮定して１株当たり四半期（当期）純利益金額又は四半期純損失金額（△）を算定しております。

第６ 【提出会社の株式事務の概要】

第７ 【提出会社の参考情報】

１ 【提出会社の親会社等の情報】

当社には、親会社等はありません。

２ 【その他の参考情報】

当事業年度の開始日から有価証券報告書提出日までの間に、次の書類を提出しております。

(1)　有価証券報告書及びその添付書類、有価証券報告書の確認書

事業年度　第28期(自　平成24年４月１日　至　平成25年３月31日)平成25年６月27日関東財務局長に提出。

(2)　内部統制報告書

事業年度　第28期(自　平成24年４月１日　至　平成25年３月31日)平成25年６月27日関東財務局長に提出。

(3)　四半期報告書、四半期報告書の確認書

第29期第１四半期(自　平成25年４月１日　至　平成25年６月30日)平成25年８月９日関東財務局長に提出。

第29期第２四半期(自　平成25年７月１日　至　平成25年９月30日)平成25年11月14日関東財務局長に提出。

第29期第３四半期(自　平成25年10月１日　至　平成25年12月31日)平成26年２月14日関東財務局長に提出。

(4)　臨時報告書

企業内容等の開示に関する内閣府令第19条第２項第９号の２(株主総会における議決権行使の結果)の規定に基づく臨時報告書　平成25年６月27日関東財務局長に提出。

(5)　有価証券報告書の訂正報告書及び確認書

事業年度　第27期(自　平成23年４月１日　至　平成24年３月31日)平成26年６月26日関東財務局長に提出。

事業年度　第28期(自　平成24年４月１日　至　平成25年３月31日)平成26年６月26日関東財務局長に提出。

(6)　四半期報告書の訂正報告書及び確認書

第28期第２四半期(自　平成24年７月１日　至　平成24年９月30日)平成26年６月26日関東財務局長に提出。

第29期第２四半期(自　平成25年７月１日　至　平成25年９月30日)平成26年６月26日関東財務局長に提出。

第二部 【提出会社の保証会社等の情報】

該当事項はありません。

独立監査人の監査報告書及び内部統制監査報告書

平成26年６月27日

株式会社　ホロン

取締役会　御中

アーク監査法人

指定社員業務執行社員 公認会計士 吉 村 淳 一 ㊞

指定社員業務執行社員 公認会計士 上 田 正 樹 ㊞

＜財務諸表監査＞

当監査法人は、金融商品取引法第193条の２第１項の規定に基づく監査証明を行うため、「経理の状況」に掲げられている株式会社ホロンの平成25年４月１日から平成26年３月31日までの第29期事業年度の財務諸表、すなわち、貸借対照表、損益計算書、株主資本等変動計算書、キャッシュ・フロー計算書、重要な会計方針、その他の注記及び附属明細表について監査を行った。

財務諸表に対する経営者の責任

経営者の責任は、我が国において一般に公正妥当と認められる企業会計の基準に準拠して財務諸表を作成し適正に表示することにある。これには、不正又は誤謬による重要な虚偽表示のない財務諸表を作成し適正に表示するために経営者が必要と判断した内部統制を整備及び運用することが含まれる。

監査人の責任

当監査法人の責任は、当監査法人が実施した監査に基づいて、独立の立場から財務諸表に対する意見を表明することにある。当監査法人は、我が国において一般に公正妥当と認められる監査の基準に準拠して監査を行った。監査の基準は、当監査法人に財務諸表に重要な虚偽表示がないかどうかについて合理的な保証を得るために、監査計画を策定し、これに基づき監査を実施することを求めている。

監査においては、財務諸表の金額及び開示について監査証拠を入手するための手続が実施される。監査手続は、当監査法人の判断により、不正又は誤謬による財務諸表の重要な虚偽表示のリスクの評価に基づいて選択及び適用される。財務諸表監査の目的は、内部統制の有効性について意見表明するためのものではないが、当監査法人は、リスク評価の実施に際して、状況に応じた適切な監査手続を立案するために、財務諸表の作成と適正な表示に関連する内部統制を検討する。また、監査には、経営者が採用した会計方針及びその適用方法並びに経営者によって行われた見積りの評価も含め全体としての財務諸表の表示を検討することが含まれる。

当監査法人は、意見表明の基礎となる十分かつ適切な監査証拠を入手したと判断している。

監査意見

当監査法人は、上記の財務諸表が、我が国において一般に公正妥当と認められる企業会計の基準に準拠して、株式会社ホロンの平成26年３月31日現在の財政状態並びに同日をもって終了する事業年度の経営成績及びキャッシュ・フローの状況をすべての重要な点において適正に表示しているものと認める。

＜内部統制監査＞

当監査法人は、金融商品取引法第193条の２第２項の規定に基づく監査証明を行うため、株式会社ホロンの平成26年３月31日現在の内部統制報告書について監査を行った。

内部統制報告書に対する経営者の責任

経営者の責任は、財務報告に係る内部統制を整備及び運用し、我が国において一般に公正妥当と認められる財務報告に係る内部統制の評価の基準に準拠して内部統制報告書を作成し適正に表示することにある。

なお、財務報告に係る内部統制により財務報告の虚偽の記載を完全には防止又は発見することができない可能性がある。

監査人の責任

当監査法人の責任は、当監査法人が実施した内部統制監査に基づいて、独立の立場から内部統制報告書に対する意見を表明することにある。当監査法人は、我が国において一般に公正妥当と認められる財務報告に係る内部統制の監査の基準に準拠して内部統制監査を行った。財務報告に係る内部統制の監査の基準は、当監査法人に内部統制報告書に重要な虚偽表示がないかどうかについて合理的な保証を得るために、監査計画を策定し、これに基づき内部統制監査を実施することを求めている。

内部統制監査においては、内部統制報告書における財務報告に係る内部統制の評価結果について監査証拠を入手するための手続が実施される。内部統制監査の監査手続は、当監査法人の判断により、財務報告の信頼性に及ぼす影響の重要性に基づいて選択及び適用される。また、内部統制監査には、財務報告に係る内部統制の評価範囲、評価手続及び評価結果について経営者が行った記載を含め、全体としての内部統制報告書の表示を検討することが含まれる。

当監査法人は、意見表明の基礎となる十分かつ適切な監査証拠を入手したと判断している。

監査意見

当監査法人は、株式会社ホロンが平成26年３月31日現在の財務報告に係る内部統制は有効であると表示した上記の内部統制報告書が、我が国において一般に公正妥当と認められる財務報告に係る内部統制の評価の基準に準拠して、財務報告に係る内部統制の評価結果について、すべての重要な点において適正に表示しているものと認める。

利害関係

会社と当監査法人又は業務執行社員との間には、公認会計士法の規定により記載すべき利害関係はない。

以  上

※１ 上記は監査報告書の原本に記載された事項を電子化したものであり、その原本は有価証券報告書提出会社が別途保管しております。２ XBRLデータは監査の対象には含まれていません。